分享:

電漿技術為近代學術研究與產業升級轉型所倚賴的基礎重點科技,日本文部科學省更認定電漿科學為人類未來一百年的「四大科技」之一。10月31日本校電漿科技研究中心(Institute of Plasma, Feng Chia University)與日本名古屋大學低溫電漿科學研究中心(Center for Low-temperature Plasma Sciences, Nagoya University)簽署合作備忘錄,攜手加強電漿技術整合、應用專長互補及跨領域研究合作,並加速推動優秀電漿科技人才培育、合力研提政府計畫及電漿科技跨界產業發展。

電漿科技研究中心何主亮主任(右)與日本名古屋大學低溫電漿科學研究中心大野哲靖主任代表雙方簽訂合作備忘錄。

電漿科技研究中心何主亮主任(右)與日本名古屋大學低溫電漿科學研究中心大野哲靖主任代表雙方簽訂合作備忘錄。

名古屋大學低溫電漿科學研究中心從1961年創設起一直不斷隨著工業發展而蛻變,在堀勝教授(Prof. Masaru Hori)接掌後,深化電漿科技的系統研究和整合、並廣募國際頂尖研究人才,成為日本首屈一指的國際知名電漿科技研究中心,在半導體電漿超細微加工、電漿生物醫療以及電漿農業發展等各方面都獲得重大突破。今年初堀勝教授退休,由大野哲靖教授(Prof. Noriyasu Ohno)繼續接掌中心主任,具有電漿核融合科技專業背景的大野哲靖教授多次獲得日本政府的科學貢獻獎,為該中心開啟另一個新頁。

本校電漿科技研究中心自2015年起即與堀勝教授有多年的交流,除了有兩位畢業博士生於名古屋大學低溫電漿科學研究中心任職外,並針對抗電漿蝕刻技術及電漿農業等議題進行合作。

本次合作備忘錄簽署活動在河合良信(Prof. Yoshinobu Kawai)特約講座教授、工程與科學學院王啟昌院長、材料科學與工程學系張育成主任、產學經營與人才培育中心陳志成主任、前瞻產業聯盟與開發中心邱聖貴主任、電漿科技研究中心謝秉諺助理教授及陳瑛鴻助理教授見證下,完成簽署儀式。基於雙方長期致力於開拓電漿技術於學術原理探討及產業應用的可能性,從早期的鍍膜開發乃至於現今的醫材改質、半導體製程、農業技術及能源發展的良好基礎下,未來將以電漿的多元性探索不同領域的應用潛力。

分享: